笔趣阁>都市现代>掀翻时代的男人>第376章 极紫外光刻机

苏扬看了半秒刘元龙,道:“这些设备,的确是最新的半导体核心设备,尤其是光刻机。”

说着,指着光刻机道:“这台光刻机里面的激光器、光束矫正器、能量控制器、光束形状设置、遮光器、能量探测器、掩模版都是国际最前沿的技术产品。”

苏扬继续道:“另外,掩膜台的运动控制精度达到纳米级,物镜、量台、曝光台、内部封闭框架、减振器等物,也都是目前最先进的产品。”

“当然,最主要的还是这台光刻机的光源,并非是目前国际国内流行的深紫外光。”

“所采用的光是13.5nm的软x射线,也就是极紫外光作为光源。”

苏扬的话音落下。

现场陡然变得一片寂静。

四名高冷的保镖们不知所云,作为退役的军人,他们对这些科技玩意儿一无所知,完全听得云里雾里。

但看到半导体公司的人,一个个都瞠目结舌,傻了似的,又觉得boss的话不明觉厉。

短暂的寂静之后,便是一片哗然,安正国等七人议论纷纷。

“这……”

“采用的是13.5nm的极紫外光?”

“怎么可能,我前两天才刚刚看的新闻,尼康公司的光刻机,也才在准备进发32n的深紫外光啊!”

“是啊,曝光波长一下子降到13.5nm,这岂不是意味着……它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸了!!!”

“苏总,您别不是在逗我们开心啊,现在全球范围内,绝对没有任何一家半导体公司,能造出这样的设备!”

“苏总,这到底是真是假啊!”

几名远扬半导体的高层,一个个都红着眼眶,把目光不断在苏扬和光刻机的身上徘徊。

作为半导体制造业皇冠上的明珠,光刻机的意义不言而喻。

芯片在生产中需要进行20-30次的光刻,耗时占到ic生产环节的50左右,占芯片生产成本的三分之一。

通常意义上来说,只要解决光刻机的问题,那么芯片制造的工程,就完结了一半。

因此,也不怪几个搞半导体的家伙,像是痴·汉一样看着他。

苏扬笑道:“行了,你们也别这样看我,是真是假,我嘴上说了也没用,召集人员进行一次实验,不就一目了然了?安总,工厂内应该是有光刻胶和硅片的吧?”

安正国一愣,连忙道:“有,都储存着呢,我马上找人来进行实验。”

说着,安正国立刻召集人手,搬来相应的半导体材料。

半导体芯片生产主要分为ic设计、ic制造、ic封测三大环节。

所谓ic,就是集成电路的英文简写。

ic设计是高端技术,也是inter等公司,能屹立于半导体行业巅峰最重要的因素之一。

主要根据芯片的设计目的,进行逻辑设计和规则制定,并根据设计图制作掩模,以供后续光刻步骤使用。

而ic制造,就是半导体芯片的制造了。

一般,要实现芯片电路图从掩模上转移至硅片上,并实现预定的芯片功能。

包括了光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、化学机械研磨等步骤。

至于ic封测,就是完成对芯片的封装和性能、功能测试,是产品交付前的最后工序。

ic设计就不提了,苏扬有苹果a6处理器的技术,其中就包括了32nm芯片的设计。

另外,商城挂着的inter酷睿系列,也有芯片的工艺技术。

而在ic制造中,光刻又是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。

其中的难点和关键点,在于将电路图从掩模上转移至硅片上。

这一过程,目前只能通过光刻,才能最有效地实现。

所以,光刻的工艺水平,往往直接决定了芯片的制程水平和性能水平。

安正国找来技术人员和材料,在苏扬的指导下,这些专业生产芯片的员工,初步了解到这台光刻机的使用流程。

光刻的原理,实际上非常简单。

在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶,再用光线透过掩模照射在硅片表面。

被光线照射到的光刻胶,会发生反应。

此后,再用特定的溶剂洗去被照射或未被照射的光刻胶,就实现了电路图从掩模到硅片的转移。

这和华夏古代的印刷术,实际上有一些相似之处,但光刻技术却比印刷术难了千万倍。

一般的光刻步骤,有气相成底膜、旋转涂胶、软烘、曝光、显影、坚膜。

接着,就是进行检测,主要是显影检测,让合规的硅片进入后续的蚀刻流程。

所谓蚀刻,便是通过化学或物理的方法,有选择地从硅片表面,除去不需要材料的过程。

完成之后,就能通过特定溶剂,洗去硅片表面残余的光刻胶了。

当然,这是最简易的光刻步骤,在实际生产制造中,比这复杂了上百倍。

从开始光刻,到最后洗去残余的光刻胶,几个步骤,就足足花了三个多小时。

当然,这里面也有一些员工刚刚接触新设备,操作不顺手的因素。

当时间来到下午四点半的时候。

车间内,一片惊喜和欢腾的景象。

“出来了,居然真的做出来了!”

“60nm的电路图,居然真的被我们转移到了硅片上。”

“不可思议啊!全华夏能做60nm芯片的企业,不超过三家,而且全是在18年下半年才刚刚突破的技术,还是在实


状态提示:第376章 极紫外光刻机--第1页完,继续看下一页
回到顶部